Кремниевые пластины с готовыми структурами в FOUP контейнере. В НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") идет отладка первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.
- Категории: Наука и технологии
- Место: Москва, Россия
- Дата события: 10.12.2025
- Дата поступления: 10.12.2025
- Автор: Максим Блинов
- Кредит: РИА Новости
- Источник: РИА Новости
- Оригинал: Цифра
- Формат: JPEG, 8256x5504px, 23.2Mb
- Job-ID: ec189442ddc6e846