Презентация в НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068773

Работа оператора на кластерной установке ПХО в НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ"), предназначенной для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068771

Генеральный директор АО "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" (АО НИИТМ) Михаил Бирюков. В НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") представили работу первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068768

Общий вид на чистое помещение с кластерными комплексами ПХТ (процесс плазмохимического травления) и ПХО (процесс плазмохимического осаждения) в НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ"), предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068765

Презентация в НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068764

Кремниевая пластина с готовыми структурами. В НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") идет отладка первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068762

Кремниевые пластины с готовыми структурами в FOUP контейнере. В НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") идет отладка первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068758

Робот с кремниевой пластиной в кластерной установке плазмохимического травления и осаждения, предназначенной для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм, в НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ"). Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068752

Генеральный директор АО "НИИМЭ" Александр Кравцов. В НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") представили работу первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068746

Тестовые структуры с подтвержденными параметрами на презентации в НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068738

Презентация в НИИ Молекулярной электроники (АО "НИИМЭ") первых в России кластерных установок плазмохимического травления и осаждения, предназначенных для производства электронных компонентов и микросхем с проектными нормами до 65 нм. Разработку создали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) совместно с АО "НИИМЭ". Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.

10.12.2025#9068731